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メイクカバー フラットベース 化粧下地 20g【ジーアール】がお得！
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商品名 メイクカバー フラットベース 化粧下地 20g【ジーアール】 内容量 20g メーカー名 ジーアール 素材・原材料・成分 シクロペンタシロキサン、水、（ビニルジメチコン／メチコンシルセスキオキサン）クロスポリマー、シリカ、エタノール、パルミチン酸エチルヘキシル、ジメチコン、BG、PEG−9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン、ジメチコンクロスポリマー、クエン酸Na、トコフェロール、セラミドAP、マイカ、グリセリン、ヒドロキシアパタイト、ポリクオタニウム−61、酸化亜鉛、カンゾウ根エキス、ヒアルロン酸Na、カミツレ花エキス、ハマメリス葉エキス、水溶性コラーゲン、セチルPEG／PPG−10／1ジメチコン、ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン、（ジメチコン／ビニルジメチコン）クロスポリマー、ジステアルジモニウムヘクトライト、塩化Na、ペンチレングリコール、トリベヘニン、フェノキシエタノール、酸化チタン、タルク、酸化鉄、トリエトキシカプリリルシラン、水酸化Al ご使用方法 スキンケアのあと、指先に少量ずつとり、毛穴やテカリが気になる部分になじませてください。
ご注意
●傷やはれもの、しっしん等異常のある部位には使用しないでください。
●肌に異常が生じていないかよく注意して使用してください。
化粧品が肌に合わないとき、即ち次のような場合は使用を中止してください。
そのまま使用を続けますと症状を悪化させることがありますので、皮膚科専門医等にご相談されることをおすすめします。
(1) 使用中、赤み、はれ、かゆみ、刺激、色抜け（白斑等）や黒ずみ等の異常があらわれた場合 (2) 使用した肌に直射日光があたって上記のような異常があらわれた場合
●目に入らないようご注意ください。
万一、目に入ったときは直ちに水かぬるま湯で洗い流してください。
●乳幼児の手の届かないところに保管してください。
●高温や低温の場所、直射日光のあたる場所には置かないでください。
●使用後は必ずキャップを閉めてください。
原産国または製造国 日本 広告文責：株式会社健人 電話番号 048-252-3939 区分：化粧品 サブカテゴリー： 用途別 > ベースメイク > 化粧下地 メイクカバー フラットベース 化粧下地 20g【ジーアール】 ページトップへメイクカバー フラットベース 化粧下地 20g【ジーアール】 「メイクカバー フラットベース 化粧下地 20g」は、パテ効果とソフトフォーカス効果で凸凹（毛穴、シワ）を目立たなくさせる化粧下地です。
テカリを抑える効果もあり、経時での化粧崩れを防ぎます。
伸縮するライトフィーリングゲルが肌にフィットし凸凹をフラットにし、毛穴をぼかして目立たなくします。
パウダー成分配合で美肌加工フィルター級の仕上がりに。
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